详细介绍：
用途：该设备用于陶瓷、玻璃、搪瓷等行业实验室制备熔块、玻璃低温熔剂..
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该仪器是实验室真实模拟快烧条件，具有快速烧成、调节灵活、运行费用..
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主要技术参数：
1、常温极限真空度：6.6710-2Pa、6.6..
详细介绍：用途: 用于碳化硅材料真空反应烧结。 特点: 1、碳化硅烧结炉是..
详细介绍：产品简介:超高温抗热冲击实验设备,是应用于2800度的热冲击实验设备,..
详细介绍：产品简介:常用于3000℃以内的各种碳材料的碳化和石墨化规模化生产。 ..
详细介绍：产品简介:常用于3000℃以内的各种碳材料的碳化和石墨化实验、中试生产..
详细介绍：产品简介:特点: *采用多温区独立控温,温度均匀性好; *可选配外循环..
详细介绍：产品简介:全数字恒功率控制,具有高控制精度和可靠性。 电压电流双闭环控..
详细介绍：逆变部分采用先进的IGBT晶体管。不产生高次谐波,不污染电网,不影响变..
